产品介绍
NF-300H TEOS 设备为自主研发的产品,重要利用于沉积功夫需要长的薄膜工艺,在均匀性、颗粒度、粗糙度、应力及产能等方面实现技术突破,设备机能指标达同类产品水平。
产品特点 - 高产能设计和可实现多种薄膜沉积的急剧切换 - 可满足沉积功夫需要长的薄膜工艺 - 满足300-600℃高温沉积需要 - PM腔内可进行多片wafer沉积和wafer自动起落旋转职能 - 通过S2安全认证